Plasma產生原理
等離子體是物質的一種存在狀態(tài)，通常物質以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在， 如地球大氣中電離層中的物質。
自然等離子體（如北極光，星云，太陽核，閃電）
人造等離子體（如電虹燈，火焰噴射器，日光燈，半導體制程 的濺渡，半導體制程的干蝕刻，半導體封裝制程的電漿清洗）
物質四種形態(tài) ： 固體 、 液體 、 氣體 、 電漿
人工等離子的產生：Plasma的產生是利用直流，交流，射頻或微波能源的方式，在適當的低壓狀態(tài)（約100mTorr至1Torr(1atm=760Torr)及密閉空間通以電源（12ev)，將通入密閉空間之氣體離子化，產生氣態(tài)之粒子；利用離子化之粒子及借由極板所提供之電場， 加速粒子間之撞擊作用，而經由撞擊產生之二次電子與通入密閉空間之氣態(tài)粒子，尤其是不帶電荷的氣體分子及原子團再次發(fā)生撞擊。在撞擊之間便產生了電漿及火光, 而經由撞擊之電子與粒子相結合而變成原子團。
等離子體組成：等離子體，即是包含離子電子與中性粒子或部分游離的氣體。里面的組成由各種帶電荷的電子，離子(Ion)及不帶電的激發(fā) 態(tài)分子和原子團(Radicals) 、自由基、紫外線等。
